超掺杂Ge和Si0_15Ge0_85薄膜热稳定性数据集

数据集概述

本数据集为论文《Thermal stability of hyper-doped Ge and Si0.15Ge0.85 films obtained by in situ doping and pulsed laser melting》的支撑数据，聚焦于通过原位掺杂和脉冲激光熔融制备的超掺杂Ge及Si0.15Ge0.85薄膜的热稳定性相关数据。

文件详解

• 文件名称: dataset.zip
• 文件格式: ZIP压缩包 (.zip)
• 内容说明: 该压缩包为数据集的唯一文件，包含论文研究中涉及的实验数据，但具体字段及内容因无预览信息未明确。

适用场景

• 半导体材料研究: 分析超掺杂Ge及SiGe薄膜的热稳定性特性
• 材料制备工艺优化: 探究原位掺杂与脉冲激光熔融工艺对薄膜性能的影响
• 论文成果复现: 支撑相关研究论文的数据验证与结果复现
• 电子器件材料开发: 为高性能半导体器件用薄膜材料的研发提供数据参考